业绩大幅下跌，中国的光刻机再获突破，ASML的好日子真的结束了

据媒体报道指国产EUV光刻机已取得重大突破，中科院上海光机所在核心光学器件方面取得了重大突破，另外光学系统巨头国王光学也在近期招标五轴联动加工中心，显示出整个产业链都在EUV光刻机方面迈出了重要一步，这对于ASML将是又一个重大打击。

早前ASML公布的业绩显示，营收同比、环比分别下降19%、29.1%，净利润更是同比、环比分别下滑47.8%、60.8%，原因就是它的几大客户如韩国、中国台湾和美国的采购量显著下滑。

在ASML的几个传统客户显著缩减采购金额的情况下，中国给ASML贡献的收入却快速上涨，2019年ASML从中国大陆获得的收入为13.7亿欧元，2021年则增加至27.4亿欧元，翻了一倍，中国大陆已超过美国成为ASML第三大客户，2021年美国仅为ASML贡献了15.83亿欧元。

中国对ASML贡献的收入不断增加，在于这几年中国在加速扩张芯片制造产能，中国是全球最大制造国，因此除了对先进的EUV光刻机有需求之外，对用于成熟工艺的DUV光刻机需求更大，而DUV光刻机的生产技术成熟，ASML可以迅速扩张，由此中国给ASML贡献的收入增长迅速。

不过中国在DUV、EUV光刻机方面的技术突破，对ASML将造成重大打击，未来ASML将难以再有今天如此坐享丰厚利润的好日子了。

中国在光刻机方面的技术突破首先是在DUV光刻机方面，目前中国已能生产28nm光刻机了，28nm光刻机可以用于生产14nm工艺，而且上海微电子所生产的28nm光刻机已获得富士康的大规模采用，说明国产光刻机在成熟工艺方面已达到很高的水平。

目前中国正在推进7nm工艺的量产，在难以获得EUV光刻机的情况下，可以用DUV光刻机生产7nm工艺，这一点从此前台积电先以DUV光刻机生产7nm工艺可以得到印证，而中国最大的芯片制造企业中芯国际联席CEO梁孟松曾任职台积电的技术开发高管，这也足以保证中国以DUV光刻机开发7nm工艺的成功。

中国以DUV光刻机生产7nm工艺，7nm及成熟工艺足以满足中国近九成的芯片需求，如此中国对EUV光刻机需求的紧迫性有所缓解，也为中国研发自己的EUV光刻机提供时间。

中国的芯片产业链如今脚踏实地逐渐打通EUV光刻机的各个环节，意味着未来几年时间中国将能开发出完全自研的EUV光刻机，到那时候中国将彻底实现芯片制造产业链的国产化，将完全无需依靠ASML。

如今的ASML其实已面临内忧外患，它的三大客户台积电、三星、Intel都预计2nm乃至更先进的工艺研发都将延迟至2025年之后，意味着这几年它们都不会再大规模采购光刻机，如此中国这个大客户的重要性无疑更加凸显。

然而ASML此前对待中国芯片的态度无疑让人失望，在我们自研的光刻机不断取得突破的情况下，我们更应该率先支持国产芯片产业链的发展，减少采购ASML的光刻机，可以说ASML未来几年将要好好尝尝苦日子了。